《Nature》重磅！金属的位错研究工作取得重要进展！

大多数工程项目涂料基于多相晶体结构，通过控制相连续性或通过制造各有不同涂料（如在薄膜原料中的）产生。在这两个步骤中的，微观结构通过跨异相应用程序的拢阴离子拢（或几何学拢阴离子拢）向连续性肿胀。尽管它们无两处不在，但由于它们的深埋特殊性，直接测定拢阴离子拢的动态抑制作用是未能解决问题的。

月初，美国纽约州立大学宾汉姆顿所大学周光文教授课题组，以氧化铜到铜的应用程序改变为例，展示了拢阴离子拢在以间歇方式为适度氧化物到金属的应用程序改变中的的抑制作用。通过这种方式为，应用程序凸台的侧边流动被固定在拢阴离子拢直到位拢爬升到最初氧化物/金属应用程序左边。

结合价电子量化，明确了钉扎震荡与金属价电子的非局部光纤以填充位拢本体的空位有关。这些结果缺少了对固-固应用程序改变的内源性观点，并对利用倾倒应用程序两处的结构缺陷来适度恒星质量光纤和改变动力学具有重要内涵。

相关学术论文以二本书“Dislocation-induced stop-and-go kinetics of interfacial transformations”发表在最新Nature上。

学术论文链接：

图1. 在Cu2O/Cu应用程序过渡到拢阴离子拢

图2. 在623 K和5.3 Pa的H2氢气中的Cu2O→Cu应用程序改变的停歇流动的原位TEMGIS

图3. 停走式Cu2O→Cu应用程序改变的DFT建模

本文来自“涂料基”。

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